стань автором. присоединяйся к сообществу!
Добавить новость можно всем, без премодерации, только регистрация
Лого Сделано у нас
Kотенко Cергей 30 мая 2025, 09:59 2245 Электроника, электротехника и приборы

Новосибирская компания «Оптические системы» создала лазер для литографов на 257 нанометров

 © tehnoomsk.ru

Российская компания «Оптические системы» (Новосибирск) сообщила о создании отечественной «лазерной системы для печати шаблонов с помощью ультрафиолетового излучения при изготовлении микросхем.

Предсерийный прототип пройдет испытания на белорусском предприятии электронной промышленности «Планар», которое, как известно, сегодня участвует в разработке полностью российского литографа.

читать полностью
Источник: tehnoomsk.ru
электроника, Новосибирская область
все комментарии
  • 1
    Нет аватара Tcheluskin
    30.05.2510:44:41

    Вроде бы для российского литографа на 130 нм должен быть изготовлен лазер с длиной волны 248 нм, а не 257?

    #1301888 ↑
    • 7
      Нет аватара DimaY
      30.05.2513:25:56

      Это другой тип лазера. Этот может заменить американский твердотельный лазер на белорусском литографе, который может делать очень небольшие микрочипы. На 248 нм это эксимерный (газовый) лазер криптон-фтор, вроде был создан компанией Лассард, но пока о нем никакой информации нет.

      #1301903 ↑
      • 3
        Нет аватара termometrix
        31.05.2506:37:28

        Президент РАН,27.05.2025 г.: «Сейчас тестируется степпер с эксимерным лазером с длиной волны 248 нм — проект, на котором через два-три года мы сумеем реализовать часть технологического маршрута по технологии 90 нм и затем 65 нм. Важно, что параллельно развернута программа «электронного машиностроения»: создаются свои эксимерные лазеры, установки атомарно-слоевого осаждения, ионные имплантеры, установки травления и осаждения.Кроме того, особняком стоят работы по разработке собственных особо чистых материалов — в том числе фоторезистов. При этом требования к чистоте материалов очень высоки."

        ТАСС

        https://news.ma...ciety/66307053/

        Отредактировано: termometrix~06:40 31.05.25
        #1301920 ↑
        • 1
          Нет аватара DimaY
          01.06.2522:12:30

          Я и написал, что 248 нм это должен быть эксимерный лазер. И тут дело не только в нм. Тут важна мощность и площадь экспонируемой поверхности. Поясню. При облучении фоторезист должен под действием света подвергнуться химической реакции. Световой поток в единичной точке должен быть не ниже определенного значения. Если у Вас мощность источника маленькая, то и облучить Вы можете маленькую площадь. А значит сделать очень маленький чип. Твердотельники имеют хорошую энергоэффективность для маленьких чипов. Ну например можно сделать контроллер АБС по технологии 130 нм. И это будет выгодно, потому что низкие эксплуатационные затраты. Но универсальный процессор Вы не сделаете, там площадь чипа больше. Поэтому, для каждой задачи делают разные машины, по разным технологиям. Эксимерники у нас тестируют, реальных готовых решений не видел. Обещают машину к концу года. Есть предпосылки, что все пройдет хорошо.

          #1301948 ↑
    • 2
      Аlex М Аlex М
      30.05.2523:48:21

      для печати шаблонов с помощью ультрафиолетового излучения
      Шаблоны, и это тоже очень очень важное оборудование, от него наверняка во многом тоже зависит процент выпуска годных чипов. Так ведь и для 90 и менее нм шаблоны надо как-то делать будет, начали с этого

      #1301917 ↑
Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,