стань автором. присоединяйся к сообществу!
Лого Сделано у нас

Новосибирская компания «Оптические системы» создала лазер для литографов на 257 нанометров

 © tehnoomsk.ru

Российская компания «Оптические системы» (Новосибирск) сообщила о создании отечественной «лазерной системы для печати шаблонов с помощью ультрафиолетового излучения при изготовлении микросхем.

Предсерийный прототип пройдет испытания на белорусском предприятии электронной промышленности «Планар», которое, как известно, сегодня участвует в разработке полностью российского литографа.

читать полностью

Источник: tehnoomsk.ru
  • 1
    Нет аватара DimaY
    01.06.2522:12:30

    Я и написал, что 248 нм это должен быть эксимерный лазер. И тут дело не только в нм. Тут важна мощность и площадь экспонируемой поверхности. Поясню. При облучении фоторезист должен под действием света подвергнуться химической реакции. Световой поток в единичной точке должен быть не ниже определенного значения. Если у Вас мощность источника маленькая, то и облучить Вы можете маленькую площадь. А значит сделать очень маленький чип. Твердотельники имеют хорошую энергоэффективность для маленьких чипов. Ну например можно сделать контроллер АБС по технологии 130 нм. И это будет выгодно, потому что низкие эксплуатационные затраты. Но универсальный процессор Вы не сделаете, там площадь чипа больше. Поэтому, для каждой задачи делают разные машины, по разным технологиям. Эксимерники у нас тестируют, реальных готовых решений не видел. Обещают машину к концу года. Есть предпосылки, что все пройдет хорошо.

Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,