Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
© tehnoomsk.ru
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.
Источник: tehnoomsk.ru
Другие публикации по теме
В России произведены первые лазеры для литографии
На московском предприятии ГК «Лассард» произведены пе...nbsp;на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.
Как делают транспортную карту «Тройка». Репортаж с производства
Теперь выпуск транспортной карты «Тройка» не зависит от&nb...е кристального производства завода «Микрон» в Зеленограде.
Совместный продукт АТБ Электроника и НумаТех
Numa BIOS адаптирован для работы в составе специализированной аппаратн...может применяться в качестве штатной БСВВ (базовой системы ввода/вывода)...
Поделись позитивом в своих соцсетях
22.03.2502:18:56