В ИФМ РАН впервые в России создан стенд нанолитографии с проектным разрешением 30 нанометров
Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru
Впервые в России создан стенд проекционного нанолитографа с рабочей длиной волны 13,5 нм и расчетным разрешением 30 нм. Изображение наноструктуры с уменьшением 1:5 проецируется на фоторезисте с помощью двузеркального асферического объектива. Создание стенда свидетельствует о наличии в России ключевых технологий, позволяющих разрабатывать и производить литографическое оборудование, которое в ближайшие годы станет основным при производстве чипов с топологическими нормами 8-22 нм.
Источник: ipmras.ru
Поделись позитивом в своих соцсетях
Другие публикации по теме
Бауманские фотонные чипы превзошли по своим свойствам мировые разработки
Командой научно-образовательного центра Функциональные Микро/Наносистемы (Н...С не превышают 5 дБ/м в телекоммуникационном диапазоне длин волн.
Синтезированы композиты с содержанием наноалмазов в матрице аэрогеля диоксида кремния
Ученые из Института общей и неорганической химии им. Н.С. Ку...алмазы, равномерно распределенные в матрице аэрогеля диоксида кремния.
«Насытившиеся» фтором молекулы для OLED-светодиодов стали светиться в два раза ярче
Повысить эффективность свечения металлоорганических комплексов, используемы...е и эффективные светодиоды для бытовой техники и наноизлучателей.
Вступай в наши группы и добавляй нас в друзья :)
Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru