Российские инженеры создали прототип установки для производства современной микроэлектроники
Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru
© habrastorage.org
В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.
Сейчас, как говорят сами разработчики, создан демонстрационный образец, который они сами называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.
Источник: habr.com
Поделись позитивом в своих соцсетях
Другие публикации по теме
Бауманские фотонные чипы превзошли по своим свойствам мировые разработки
Командой научно-образовательного центра Функциональные Микро/Наносистемы (Н...С не превышают 5 дБ/м в телекоммуникационном диапазоне длин волн.
Новости науки
Ученые МФТИ впервые показали считывание сверхпроводникового кубита компактн... может быть использован при масштабировании сверхпроводящих квантовых схем.
Высокотехнологичное оборудование для синхротрона СКИФ — на 90% отечественное
Объект представляет собой комплекс из 34 зданий общей площадью застрой...Г. Будкера СО РАН (ИЯФ), а также предприятий-партнеров института.
Вступай в наши группы и добавляй нас в друзья :)
Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru